化学物质释放人工改变电离层

• 作者: 古士芬 黄文耿
• 来源期刊: 空间科学学报
• 学科: 地球科学
• 关键词: 化学释放 电离层扰动 扩散过程
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 页码范围: 254-258
• 页数: 5页
• 分类号: P352
• 字数: 2952字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6124.2005.04.003

摘要

考虑中性气体在电离层高度的扩散过程和相应的电离层离子化学过程,研究了利用主动化学物质释放来改变电离层的方法,理论计算了H2O和SF6两种气体释放后电离层随时间的响应过程.结果表明,在电离层高度上气体的扩散过程非常迅速,电离层F区的电子密度有很大程度的减少,而扩散慢且化学反应快的气体对电离层的影响更大,就更加有利于电离层洞的形成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄文耿	中国科学院空间科学与应用研究中心	28	202	8.0	13.0
2	古士芬	中国科学院空间科学与应用研究中心	13	152	7.0	12.0