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摘要:
结合KP9500-55晶闸管的研究课题,对晶闸管的正负斜角、双正斜角等表面造型进行了分析,并结合工厂的生产实践,探讨了应用不同表面造型的可能性.采用由刻槽法获得的双正斜角表面造型,可形成管芯电压合格率稳定在60%~80%之间的生产能力.实验结果表明,采用刻槽方式的双正斜角造型,槽深在片厚的0.60~0.66范围,两次喷腐,表面采用硅橡胶保护,可以制成正反阻断特性接近,电压达到5.5kV的高压晶闸管,值得推广应用于高压器件在研制.
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文献信息
篇名 高压晶闸管的双正斜角造型及表面保护
来源期刊 电力电子技术 学科 工学
关键词 晶闸管/双正斜角 刻槽法 表面腐蚀 表面保护
年,卷(期) 2005,(5) 所属期刊栏目 其他
研究方向 页码范围 141-142
页数 2页 分类号 TN341
字数 1929字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-100X.2005.05.051
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研究主题发展历程
节点文献
晶闸管/双正斜角
刻槽法
表面腐蚀
表面保护
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电力电子技术
月刊
1000-100X
61-1124/TM
大16开
西安朱雀大街94号
52-44
1967
chi
出版文献量(篇)
7330
总下载数(次)
19
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