硅膜制备

• 作者: 周玉锋 张宇民 韩杰才
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 化学
• 关键词: 硅膜制备 物理气相沉积 EB-PVD 化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 新材料新技术
• 页码范围: 84-86
• 页数: 3页
• 分类号: O6
• 字数: 3343字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2005.12.023

摘要

介绍了两大类硅膜的制备方法:物理方法与化学方法,其中包括物理方法中的电子束物理气相沉积技术(EB-PVD),目前该技术在国内应用比较少,所以对其工作原理、薄膜质量的影响因素等作了重点介绍.此外还介绍了磁控溅射法、化学气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积、热丝化学气相沉积法等硅膜制备方法的基本原理及特点,并对它们的优缺点进行了比较.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩杰才	哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所	298	4663	35.0	52.0
2	张宇民	哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所	60	685	14.0	24.0
3	周玉锋	哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所	17	101	5.0	9.0