贫铀表面脉冲电镀镍层的腐蚀机理研究

• 作者: 叶宏 张鹏程 王嘉勇 王庆富 王晓红 郎定木
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 贫铀 脉冲电镀 镍镀层 腐蚀
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 化学
• 页码范围: 44-48
• 页数: 5页
• 分类号: TL214.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2005.01.009

摘要

利用扫描电镜、X射线能谱仪及电化学测试技术对贫铀表面脉冲电镀镍层的腐蚀机理进行了研究.结果表明:在含50μg/g Cl-的KCl溶液中,首先,在铀表面镍镀层的孔隙处发生腐蚀并逐渐扩展到铀/镍界面;腐蚀产物在界面的积累导致镍镀层开裂;镍对铀是一种阴极性镀层,铀镍接触发生电偶腐蚀,镍对铀的保护作用基于镍镀层对腐蚀介质的物理屏障,提高镀层的致密性可改善镍镀层对铀基体的抗腐蚀能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郎定木		40	144	8.0	9.0
2	张鹏程		52	290	10.0	14.0
3	王晓红		13	80	6.0	8.0
4	王庆富		27	143	8.0	10.0
5	王嘉勇		5	31	3.0	5.0
6	叶宏	重庆工学院材料科学与工程学院	30	430	12.0	20.0