纳米压印光刻中模版与基片的平行调整方法

• 作者: 卢秉恒 张亚军 段玉刚 王权岱
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 压印光刻 柔性铰链 工作台
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 34-38
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2663字
• 语种: 中文

摘要

概述了纳米压印光刻的原理,以及纳米压印光刻工艺中模版与基片的平行度对压印质量的影响,分析了国内外几种纳米压印光刻工作台的结构与特点,并对其优缺点进行了评价.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢秉恒	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	387	5973	36.0	56.0
2	王权岱	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	12	83	6.0	9.0
3	张亚军	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	6	92	5.0	6.0
4	段玉刚	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	5	16	2.0	4.0