电解抛光法制备超细钼丝及其表征

• 作者: 付志兵 余斌 刘德斌 杨向东 章志敏 邱龙会
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 电解抛光 钼丝 表面形貌
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 页码范围: 547-551
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2005.06.017

摘要

研究利用交流电解抛光技术制备用于惯性约束聚变Z-pinch物理实验的超细钼丝.实验研究了电解液浓度、温度、电解电压和腐蚀时间对制备超细钼丝的直径、表面状态和钼丝抗拉强度的影响,并用电阻法和扫描电镜、原子力显微镜表征了钼丝直径和表面形貌,用数字测力仪测定了钼丝的强度.测试结果表明,采用该技术能制备出5～15 μm的超细钼丝.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨向东	四川大学原子与分子研究所	278	1103	14.0	21.0
2	刘德斌	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	13	71	6.0	8.0
3	邱龙会	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	20	337	10.0	18.0
4	付志兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	53	352	10.0	15.0
5	余斌	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	20	108	6.0	9.0
6	章志敏	四川大学原子与分子研究所	2	16	2.0	2.0