篇名 | Microstructural Evolution in Silicon Implanted with Chlorine Ions | ||
来源期刊 | 近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版 | 学科 | 工学 |
关键词 | 氯离子注入 硅晶片 组织演变 应用程序 设备技术 掺杂方法 结构演变 联合国 | ||
年,卷(期) | jdwlyjshlzzlzjsqsysnbywb_2005,(1) | 所属期刊栏目 | |
研究方向 | 页码范围 | 62 | |
页数 | 1页 | 分类号 | TG172.82 |
字数 | 语种 | 中文 | |
DOI |