化学沉淀法制备纳米二氧化硅

• 作者: 吴红梅 周立岱 杜金山 郭宇
• 来源期刊: 辽宁化工
• 关键词: 纳米二氧化硅 化学沉淀法 制备
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 56-57
• 页数: 2页
• 分类号: TQ127.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-0935.2005.02.004

摘要

以水玻璃和盐酸为原料,采用化学沉淀法制备纳米SiO2.工艺条件为:温度40～50℃,pH值5～6,干燥温度110℃,焙烧温度500℃,制得的二氧化硅粒径在50～60nm,比表面积大,分散性好,达到了工业生产的标准.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周立岱	辽宁工学院材料与化学工程学院	11	372	7.0	11.0
2	吴红梅	辽宁工学院材料与化学工程学院	6	133	4.0	6.0
3	郭宇	辽宁工学院材料与化学工程学院	7	137	4.0	7.0
4	杜金山	辽宁工学院材料与化学工程学院	4	76	4.0	4.0