MoSi2涂层在不同热处理工艺下的研究

• 作者: 吕广庶 李和章 胡江辉 蒋婷婷
• 来源期刊: 新技术新工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子喷涂 MoSi2 晶体
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 热加工工艺技术与装备
• 页码范围: 40-42
• 页数: 3页
• 分类号: TG174
• 字数: 2401字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-5311.2005.07.017

摘要

研究了等离子喷涂单一MoSi2涂层在不同的热处理工艺条件下发生的变化,结果表明650℃保温1 h,试样出现粉化现象,750℃保温1 h试样背面出现Mo的氧化物晶体,这为自愈合现象的存在提供了前提条件,对研究热障涂层中MoSi2的作用机理有一定指导意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕广庶	北京理工大学材料科学与工程学院	60	502	12.0	19.0
2	李和章	北京理工大学材料科学与工程学院	13	12	2.0	2.0
3	蒋婷婷		2	1	1.0	1.0
4	胡江辉	北京理工大学材料科学与工程学院	2	0	0.0	0.0