TiN/TaN多层膜的结构和摩擦学性能

• 作者: 安健 张庆瑜
• 来源期刊: 摩擦学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 TiN TaN 多层膜 摩擦学性能
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 7-12
• 页数: 6页
• 分类号: TG113.1
• 字数: 3530字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0595.2005.01.002

摘要

利用磁控溅射法在单晶硅基底上制备了一系列TiN/TaN多层膜; 采用X射线衍射仪、显微硬度计、球-盘摩擦磨损试验机和三维表面形貌仪等分析了多层膜的结构、硬度、摩擦学性能和磨损机制.结果表明:所制备的多层膜具有良好的周期性和清晰的界面结构,其中TiN层具有面心立方结构,当TaN层在调制周期Λ值小于8.5 nm时具有面心立方结构,在调制周期Λ值大于8.5 nm时具有部分六方结构;多层膜的硬度受调制周期影响,当调制周期Λ值为8.5 nm时,显微硬度达到最大值31.5 GPa.相对于TiN薄膜而言,TiN/TaN多层膜的摩擦系数较高、耐磨性能更好;多层膜的磨损机制主要为犁削、粘着和局部剥落.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	安健	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	27	199	8.0	13.0
3	张庆瑜	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	92	897	16.0	25.0