掩模硅片自动对准误差校正算法

• 作者: 周金梅 曹益平 梁友生 邢廷文
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光学光刻 掩模硅片 对准 对准模型 最小二乘法
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 42-47
• 页数: 6页
• 分类号: TN405.7
• 字数: 4105字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2005.01.010

摘要

为了改善对准精度,对100 nm级线宽尺寸建立了掩模硅片自动对准数学模型,应用于同轴离轴混合对准系统的硅片模型、掩模模型以及工件台模型中.掩模硅片自动对准算法决定机器坐标系、掩模坐标系、硅片坐标系相互的位置关系,可很好地校正由掩模硅片引起的平移、线变、旋转、正交性的偏差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹益平	四川大学光电科学技术系	136	874	15.0	24.0
2	邢廷文	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	67	501	11.0	17.0
3	周金梅	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	9	75	4.0	8.0
4	梁友生	四川大学光电科学技术系	6	63	4.0	6.0