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薄层色谱法测定药物中的妥布霉素
薄层色谱法测定药物中的妥布霉素
作者:
张辉
林莉
陶凯
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
卡波姆
硅胶H
妥布霉素
薄层色谱法
比移值
摘要:
卡波姆、NaOH和硅胶H铺制薄层硅胶板,薄层色谱法测定药品中妥布霉素的纯度,达到美国药典24版质量标准要求.
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文献信息
篇名
薄层色谱法测定药物中的妥布霉素
来源期刊
光谱实验室
学科
化学
关键词
卡波姆
硅胶H
妥布霉素
薄层色谱法
比移值
年,卷(期)
2005,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
551-552
页数
2页
分类号
O657.7
字数
1034字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1004-8138.2005.03.028
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
林莉
沈阳医学院基础部化学教研室
17
40
3.0
5.0
2
张辉
沈阳医学院基础部化学教研室
50
168
8.0
10.0
3
陶凯
14
61
5.0
7.0
传播情况
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二级引证文献(0)
2020(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
卡波姆
硅胶H
妥布霉素
薄层色谱法
比移值
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光谱实验室
主办单位:
中科院化工冶金研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-8138
CN:
11-3157/O4
开本:
16开
出版地:
北京市高梁桥斜街13号院35号楼204室
邮发代号:
82-863
创刊时间:
1984
语种:
chi
出版文献量(篇)
6771
总下载数(次)
3
总被引数(次)
37136
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