锡须研究的历史与现状

• 作者: 管俊芳 邬博义 钟伟 陈忍昌
• 来源期刊: 电子质量
• 学科: 工学
• 关键词: 锡须 历史 现状
• 年，卷（期）: 2005,（8）
• 所属期刊栏目: 技术壁垒
• 页码范围: 59-63,58
• 页数: 6页
• 分类号: TQ134.3+2
• 字数: 4165字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-0107.2005.08.023

摘要

本文基于Galyon的系列综述文章,简要介绍了锡须研究的历史与现状,包括基本概念和理论,以及抑制方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟伟		10	51	5.0	6.0
2	陈忍昌	香港城市大学电子封装及组装暨失效分析及可靠性工程中心	3	33	3.0	3.0
3	管俊芳	香港城市大学电子封装及组装暨失效分析及可靠性工程中心	1	9	1.0	1.0
4	邬博义		1	9	1.0	1.0