退火处理对ZnO薄膜发光特性的影响

• 作者: 周圣明 宋词 彭观良 徐军 杭寅 苏凤莲 邹军
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 脉冲激光沉积 退火 蓝光发射
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 页码范围: 107-111
• 页数: 5页
• 分类号: O734
• 字数: 2932字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2005.01.024

摘要

用脉冲激光沉积法(PLD)在MgO(100)、α-Al2O3(0001)和MgAl2O4(111)衬底上沉积了ZnO薄膜,测量了它们的发射光谱,观察到430nm的蓝光发射,并研究了退火、衬底和激发波长对ZnO薄膜这一蓝光发射的影响.指出ZnO薄膜中430nm的蓝光发射是由锌填隙原子缺陷能级到价带顶能级间的跃迁以及电子从氧空位浅施主能级到价带顶能级间的跃迁两种机理共同作用的结果.在MgO衬底上沉积的ZnO薄膜在350nm光激发下蓝光发射峰最强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐军	中国科学院上海光学精密机械研究所	290	2418	22.0	34.0
2	宋词	中国科学院上海光学精密机械研究所	11	172	4.0	11.0
3	杭寅	中国科学院上海光学精密机械研究所	44	386	10.0	17.0
4	彭观良	中国科学院上海光学精密机械研究所	8	63	5.0	7.0
5	邹军	中国科学院上海光学精密机械研究所	14	71	5.0	7.0
6	苏凤莲	中国科学院上海光学精密机械研究所	4	24	3.0	4.0