贵金属化学气相沉积的研究进展

• 作者: 戴姣燕 欧阳远良 王云 胡昌义 陈松
• 来源期刊: 贵金属
• 学科: 工学
• 关键词: 金属材料 贵金属薄膜和涂层 化学气相沉积 前驱体 应用
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 综合论述
• 页码范围: 57-63
• 页数: 7页
• 分类号: TG146.3
• 字数: 3421字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-0676.2005.02.014

摘要

简要介绍了贵金属薄膜和涂层材料化学气相沉积(CVD)技术的研究进展,包括贵金属的CVD制备方法、沉积贵金属的各种前驱体化合物以及CVD制备的贵金属薄膜和涂层的应用状况等.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈松		44	235	9.0	14.0
2	胡昌义		26	117	7.0	9.0
3	戴姣燕		2	17	2.0	2.0
4	欧阳远良		4	26	3.0	4.0
5	王云		6	34	3.0	5.0