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摘要:
采用磁控溅射技术制备了优良的NiCr系深蓝色太阳光谱选择性吸收薄膜,测试了样品的太阳吸收比和热发射比,αs=0.90~0.94,ε=0.08~0.16(80℃).用椭偏法测量了两层膜系的光学常数,借助扫描电镜、透射电镜、X射线衍射对薄膜进行了表征,并初步讨论了溅射工艺对样品结构形貌和光学性能的影响.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 NiCr系光谱选择性吸收薄膜的结构与性能表征
来源期刊 太阳能学报 学科 工学
关键词 选择性吸收 NiCr系 溅射工艺 结构形貌 光学性能
年,卷(期) 2005,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 52-58
页数 7页 分类号 TB33
字数 3443字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0254-0096.2005.01.011
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 沈辉 中国科学院广州能源研究所 50 891 14.0 29.0
2 汪保卫 中国科学院广州能源研究所 7 110 7.0 7.0
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太阳能学报
月刊
0254-0096
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大16开
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1980
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