用AFM和XPS研究LiBq4/ITO的表面和界面

• 作者: 张福甲 桂文明 欧谷平 金世超
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: LiBq4/ITO 表面 界面 原子力显微镜 X射线光电子谱
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 337-343
• 页数: 7页
• 分类号: TN383.1|TN873.3
• 字数: 3484字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2005.03.011

摘要

用原子力显微镜(AFM)研究了LiBq4/ITO样品表面形貌,结果表明LiBq4层中存在很多裂缝和空隙.用X射线光电子谱(XPS)研究样品表面和界面的电子状态,发现C1s谱在高结合能端出现氧化特征的肩峰,表明真空蒸发沉积的LiBq4分子存在明显的氧化现象;对B1s谱的分析发现,界面处B原子的相对值远低于理论值,说明界面处存在B原子离解,导致了LiBq4分子的更高氧化态;从C1s谱发现,表面污染C的比例很高,而界面处大为下降,原因是表面吸附了气体,从而证实了LiBq4表面存在大量空隙和裂缝.定量研究发现,界面处存在N原子与In、Sn原子的相互作用,这将影响LiBq4的发光颜色.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	欧谷平	兰州大学物理学院微电子所	27	88	6.0	7.0
2	桂文明	兰州大学物理学院微电子所	10	56	5.0	7.0
3	张福甲	兰州大学物理学院微电子所	71	318	9.0	14.0
4	金世超	兰州大学物理学院微电子所	2	8	1.0	2.0