纳米级含钴介孔分子筛的合成与表征

• 作者: 姜廷顺 杨绪杰 殷恒波 赵谦 陆路德
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 化学
• 关键词: 介孔分子筛 纳米级 合成 表征
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 页码范围: 1197-1201
• 页数: 5页
• 分类号: O643
• 字数: 2470字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0454-5648.2005.10.005

摘要

以硅酸钠、偏铝酸钠和氯化钴为原料,十六烷基三甲基溴化铵为模板剂,体积比为1:1的硫酸使pH=11,用两步水热法制备含钴介孔分子筛(CoMCM-41).用粉末X射线衍射、Fourier变换红外、程序升温还原、原子力显微镜、比表面和孔径测定等方法表征样品的物化性能.结果表明:合成的纳米CoMCM-41,经5 50 ℃焙烧可以有效去除模板剂并不影响孔结构.CoMCM-41的比表面积大于500 m2/g,孔径分布为3.5～4.0 nm,粒径分布为20～40 nm.因此,用两步水热法可以控制粒径并制备纳米级CoMCM-41.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜廷顺	南京理工大学材料化学实验室	7	31	3.0	5.0
5	赵谦	江苏大学化学化工学院	64	376	10.0	14.0
6	陆路德	南京理工大学材料化学实验室	325	4808	33.0	56.0
7	杨绪杰	南京理工大学材料化学实验室	278	3703	28.0	49.0
8	殷恒波	江苏大学化学化工学院	90	489	11.0	14.0