Mie理论在静态光散射粒度测量的应用下限研究

• 作者: 任中京 汲云涛
• 来源期刊: 中国粉体技术
• 关键词: 颗粒 粒度 光散射 Mie理论
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 颗粒测试与表征
• 页码范围: 14-16
• 页数: 3页
• 分类号: O436.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-5548.2005.06.005

摘要

测量下限是光散射颗粒测试技术的关键问题.本文通过理论分析、比较归一化散射光强的分布图和构造方差函数F(d)对颗粒散射光的光强分布进行了定性和定量的讨论,对Mie散射向Rayleigh 散射趋近的情况进行了分析,讨论了散射光光强大小的分布,分析了测量不同粒径的颗粒的可行性,最终得到在入射光源是波长为0.6328μm的He-Ne激光器的情况下,当粒径d取200nm以上时,不同粒径颗粒的Mie散射光强分布有较大差别,适合用静态光散射的方法来判断颗粒粒径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任中京	济南大学颗粒测试研究所	10	119	6.0	10.0