CVD Al2O3-SiO2涂层的莫来石化行为

• 作者: 严波 张立同 成来飞 李聪 陈照峰
• 来源期刊: 航空材料学报
• 关键词: 化学气相沉积 Al2O3-SiO2 涂层 莫来石化
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 页码范围: 34-37
• 页数: 4页
• 分类号: TQ174.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5053.2005.05.007

摘要

采用CVD工艺,以AlCl3-SiCl4-H2-CO2为先驱体气相体系,在石墨纸上于550℃制备出Al2O3-SiO2复合氧化物涂层,通过DTA和XRD分析了该涂层的莫来石化过程.该涂层由γ-Al2O3和非晶SiO2组成,其DTA曲线有四个典型峰,793℃弱的放热峰为开始莫来石化峰;984℃尖锐的放热峰为γ-Al2O3向δ-Al2O3转化峰;1240℃弱的吸热峰为δ-Al2O3向α-Al2O3转化峰,该过程比较缓慢;1337℃强的放热峰为莫来石形成峰,发生在δ-Al2O3与SiO2之间.结果表明,该CVD过程不具氧化性,对C不腐蚀,制备的Al2O3-SiO2涂层经1350℃热处理2h可转化为莫来石结合α-Al2O3.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	成来飞	西北工业大学凝固技术国家重点实验室	259	2656	22.0	40.0
2	张立同	西北工业大学凝固技术国家重点实验室	248	2867	24.0	42.0
3	陈照峰	南京航空航天大学材料科学与技术学院	39	377	12.0	18.0
5	李聪	南京航空航天大学材料科学与技术学院	9	5	1.0	2.0
8	严波	南京航空航天大学材料科学与技术学院	1	3	1.0	1.0