氯氟烃化合物对臭氧层的影响---浅谈制冷剂R22替代R502的价值与技术

• 作者: 李晶 胡瑞卿
• 来源期刊: 环境技术
• 学科: 地球科学
• 关键词: 臭氧层 低温应用
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 环境条件
• 页码范围: 24-26
• 页数: 3页
• 分类号: X515
• 字数: 3084字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-7204.2005.02.008

摘要

从保护臭氧层,保护环境的角度出发,介绍了氯氟烃化合物对环境的影响.阐述了用制冷剂R22代替R502在低蒸发温度应用时需要解决的问题和如何解决.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡瑞卿		1	3	1.0	1.0
2	李晶		2	3	1.0	1.0