光刻线宽精度控制的研究

• 作者: 唐拓 姜立娟 李响
• 来源期刊: 微处理机
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 线宽
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 大规模集成电路设计、制造与应用
• 页码范围: 12-13
• 页数: 2页
• 分类号: TN406
• 字数: 1617字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2279.2005.02.005

摘要

本文通过对涂胶、曝光等影响线宽参数的工艺进行实验,制定了一套工艺规范,使光刻线宽控制在±10%以内,提高了光刻的工艺水平.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜立娟		3	11	1.0	3.0
2	李响		1	9	1.0	1.0
3	唐拓		1	9	1.0	1.0