多种键合剂与CL-20界面的相互作用机理

• 作者: 张斌 罗运军 谭惠民
• 来源期刊: 火炸药学报
• 关键词: 物理化学 键合剂 CL-20 包覆性能
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 页码范围: 23-26
• 页数: 4页
• 分类号: TJ763
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7812.2005.03.007

摘要

选用4种键合剂对CL-20晶体进行包覆,通过X射线光电子能谱(XPS)和显微红外光谱(MIR)研究了包覆性能及其界面相互作用机理.结果表明,键合剂可以在CL-20表面形成一层粘附层以及键合剂与CL-20的NO2基团存在诱导效应,从而证明了键合剂对CL-20有良好的包覆性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗运军	北京理工大学材料科学与工程学院	379	4457	30.0	42.0
2	谭惠民	北京理工大学材料科学与工程学院	309	4391	32.0	46.0
3	张斌	北京理工大学材料科学与工程学院	20	369	11.0	19.0