锑在直流反应磁控溅射制备二氧化钛薄膜中的作用

• 作者: 俞宏坤 崔晓莉 杨锡良 沃松涛 沈杰 章壮键 蔡臻炜
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 二氧化钛 直流反应磁控溅射 锑 表面活性剂
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 50-52
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.8|O484.4
• 字数: 1778字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.01.013

摘要

用直流反应磁控溅射方法在玻璃基底上制备了Sb修饰TiO2薄膜,利用XRD,Raman光谱以及SIMS研究了Sb对其表面结晶情况的影响并用XPS及SIMS分析了薄膜的成分.结果表明一定程度Sb的修饰对TiO2薄膜成晶有优化作用,起到了类似表面活性剂的作用,并使薄膜表面的光致亲水性能得到改善.当Sb修饰过量时,破坏了TiO2原有的晶格结构,劣化了薄膜表面的光致亲水性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈杰	复旦大学材料科学系	79	645	12.0	22.0
2	俞宏坤	复旦大学材料科学系	24	318	8.0	17.0
3	沃松涛	复旦大学材料科学系	11	229	8.0	11.0
4	蔡臻炜	复旦大学材料科学系	6	59	4.0	6.0
5	崔晓莉	复旦大学材料科学系	42	1222	18.0	34.0
6	杨锡良	复旦大学材料科学系	22	512	13.0	22.0
7	章壮键	复旦大学材料科学系	1	4	1.0	1.0