7075铝合金在电解液薄层下的电位波动

• 作者: 何建平 刘晓磊 袁庆铭 陈素晶
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 化学
• 关键词: 铝合金 薄电解液层 电位波动 点蚀
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 167-171
• 页数: 5页
• 分类号: O646
• 字数: 2788字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3471.2005.02.010

摘要

在3.5%NaCl电解液膜下,7075铝合金自腐蚀电位随浸泡时间的波动呈如下变化:浸泡初期,自腐蚀电位E波动的幅度极小,继续浸泡至4 h后E急剧增大到20 mV,而浸泡6 h后的波动幅度与腐蚀初期相近,但出现了正向尖峰,至12 h后的波动幅度又与4h的相当.实验发现自腐蚀电位的均方差随腐蚀时间呈先负移而后正移的趋势,4 h时出现极小值.而电位功率谱密度线性部分的斜率(k),则在4 h时呈现较小值,6 h时出现最大值.由此推断7075铝合金在薄电解液膜下浸泡6h后其表面产生了稳定的蚀点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何建平	南京航空航天大学材料科学与技术学院	56	648	15.0	22.0
2	刘晓磊	南京航空航天大学材料科学与技术学院	11	111	7.0	10.0
3	陈素晶	南京航空航天大学材料科学与技术学院	7	45	5.0	6.0
4	袁庆铭		8	44	4.0	6.0