导电高分子场发射特性研究

• 作者: 彭俊彪 曹镛 李政林 程兰 赖国洪
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 导电高分子 聚苯胺 薄膜 场发射
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 105-108
• 页数: 6页
• 分类号: TN873.95
• 字数: 2141字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2005.01.019

摘要

用掺杂樟脑磺酸的聚苯胺(PANI-CSA)形成的导电高分子制成的薄膜作为场致发射的阴极材料,用覆盖了荧光层(ZnO:Zn)的氧化铟锡(ITO)做阳极,由所制成的显示器件得到比较稳定的场致电子发射,并具有较低的场发射阈值电压.通过研究导电高分子薄膜形貌,初步分析了场发射电流机制.认为导电高分子薄膜产生场发射的原因是薄膜在高电场作用下,首先在平整的高分子薄膜表面形成了尖锥和凹陷,提高了场强增强因子(β).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭俊彪	华南理工大学高分子光电材料及器件研究所	63	524	15.0	20.0
2	曹镛	华南理工大学高分子光电材料及器件研究所	53	581	15.0	22.0
3	程兰	华南理工大学高分子光电材料及器件研究所	2	7	1.0	2.0
4	赖国洪	华南理工大学高分子光电材料及器件研究所	2	7	1.0	2.0
5	李政林	华南理工大学高分子光电材料及器件研究所	2	7	1.0	2.0