掺钕聚甲基丙烯酸甲酯的光谱性质

• 作者: 刘志高 明海 梁浩 郑志强
• 来源期刊: 光电子技术与信息
• 学科: 物理学
• 关键词: 钕离子掺杂聚甲基丙烯酸甲酯 辐射特性 Judd-Ofe1t理论 光放大
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 材料与元器件
• 页码范围: 29-33
• 页数: 5页
• 分类号: O4334
• 字数: 2575字
• 语种: 中文

摘要

研究了三价钕离子在钕螯合物掺杂的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)中的吸收光谱和发射光谱.根据Judd-Ofelt理论,从吸收光谱计算了钕离子在PMMA中的光学跃迁的强度参量Ω2、Ω4和Ω6(Ω2=28.99×10-20 cm2,Ω4=5.29×10-20 cm2,Ω8=3.82×10-20 cm2).用强度参量计算了钕离子激发态(4F3/2)的辐射跃迁几率(2221.54 s-1)和辐射寿命(450.14μs),同时计算了4F3/2 →4IJ'跃迁的受激发射截面σij和荧光分支比β.分析表明,Nd(DBM)3Phen掺杂的PMMA可望用于激光放大器件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	明海	中国科学技术大学物理系	104	743	13.0	21.0
2	郑志强	福建师范大学物理与光电信息科技学院	46	105	5.0	8.0
3	刘志高	福建师范大学物理与光电信息科技学院	6	8	1.0	2.0
4	梁浩	中国科学技术大学高分子科学与工程系	7	26	3.0	4.0