Co/Cu纳米多层膜的制备及巨磁阻性能的研究

• 作者: 俞文清 印仁和 曹为民 曾绍海 王慧娟 胡滢
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 Co/Cu纳米多层膜 X射线衍射 巨磁阻效应
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 187-189
• 页数: 3页
• 分类号: TG115.21
• 字数: 2442字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.02.008

摘要

采用恒电位双电解槽法在硼酸镀液体系中,以单晶Si(111)为基底电沉积制备Co/Cu多层膜,确定了双槽法制备多层膜的工艺条件,为得到优良的多层膜巨磁阻材料,镀液体系中加入了自制的添加剂.并用扫描电镜(SEM)表征了多层膜的断面形貌,小角度X射线衍射(LXRD)谱图中出现了2个衍射峰,大角度X射线衍射(MXRD)谱图中强衍射峰的两侧出现了卫星峰,表明多层膜具有超晶格结构.用物性测量系统(PPMS)测试了Co/Cu多层膜的巨磁阻(GMR)性能,GMR值达到52.52%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹为民	上海大学理学院化学系	36	349	12.0	17.0
2	印仁和	上海大学理学院化学系	60	427	11.0	16.0
3	王慧娟	上海大学理学院化学系	3	35	2.0	3.0
4	曾绍海	上海大学理学院化学系	5	69	4.0	5.0
5	胡滢	上海大学理学院化学系	5	36	3.0	5.0
6	俞文清	上海大学理学院化学系	1	23	1.0	1.0