填充因子对K-V分布束晕-混沌控制效果的影响

• 作者: 成丽春 方锦清 朱伦武 罗晓曙 翁甲强
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 填充因子 强流加速器 K-V分布 束晕-混沌 束流传输网络(通道)
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 物理
• 页码范围: 18-23
• 页数: 6页
• 分类号: TL501.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2005.01.004

摘要

系统地研究了周期磁聚焦束流传输网络中填充因子对强流离子加速器K-V分布束晕-混沌控制效果的影响.通过数值模拟,确定了束晕-混沌控制效果较好的填充因子的取值范围为0.75～0.99,从而把以往填充因子只凭经验取个别值的研究扩大到可在一个较大的范围取值.另外,还发现了填充因子取值为0.59～0.67时束截面上离子数密度分布由均匀分布变为沿径向出现一峰状分布现象,从而为离子束应用提供了新的参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方锦清		120	2127	25.0	41.0
2	罗晓曙	广西师范大学物理与信息工程学院	227	1924	22.0	32.0
3	翁甲强	广西师范大学物理与信息工程学院	52	518	13.0	21.0
4	成丽春	广西师范大学物理与信息工程学院	4	40	4.0	4.0
5	朱伦武	浙江科技学院基础部	4	30	3.0	4.0