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摘要:
采用APCVD工艺,以SiH4为原料在不同温度的玻璃基板上硅质薄膜的制备,采用划痕法测量薄膜与基板之间的附着力,研究了薄膜附着力随基板温度变化趋势.说明了吸附、扩散的增强以及沉积速率的增大等都会导致薄膜附着力的增加.
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无氯
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 玻璃基板上硅薄膜附着力的研究
来源期刊 玻璃 学科 工学
关键词 镀膜玻璃 硅薄膜附着力 划痕法
年,卷(期) 2005,(2) 所属期刊栏目 研究与研制
研究方向 页码范围 3-4,21
页数 3页 分类号 TQ171
字数 1585字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-1987.2005.02.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 韩高荣 浙江大学无机非金属材料研究所 187 1971 24.0 35.0
2 宋晨路 浙江大学无机非金属材料研究所 37 372 10.0 18.0
3 朱建强 1 3 1.0 1.0
4 姜英娜 2 4 1.0 2.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
镀膜玻璃
硅薄膜附着力
划痕法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
玻璃
月刊
1003-1987
13-1106/TQ
大16开
河北省秦皇岛市河北大街西段91号
1974
chi
出版文献量(篇)
3465
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16
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