四氧化二氮对卫星漫反射试片氟化镁涂层的污染和侵蚀

• 作者: 刘宏立 崔季平 樊菁 舒勇华 谢冲
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: N2O4 漫反射试片 MgF2涂层 表面污染
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 页码范围: 70-73,83
• 页数: 5页
• 分类号: TG172.3+2
• 字数: 3114字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-4537.2005.02.002

摘要

利用漫反射率、X射线光电能谱和质谱等测量方法,研究了固态和气态四氧化二氮(N2O4)对漫反射试片氟化镁(MgF2)涂层表面的污染情况.实验表明,固态N2O4对MgF2涂层有严重侵蚀作用,N2O4固粒污染后的涂层表面漫反射率下降了20%～30%.在一定的时间内,气态N2O4对涂层表面的影响显著地依赖它的压力.试片在压力为6.9×104 Pa和200Pa的N2O4蒸气中分别放置10 min,前者厚度为40μm的MgF2涂层基本消失,表面漫反射率下降约20%;后者涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小.还给出了MgF2涂层表面N2O4分子吸附摩尔密度,以及与涂层表面碰撞的N2O4分子通过化学吸附过程提取MgF2的几率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔季平	中国科学院力学研究所高温气体动力学重点实验室	17	89	4.0	9.0
2	舒勇华	中国科学院力学研究所高温气体动力学重点实验室	8	32	3.0	5.0
3	刘宏立	中国科学院力学研究所高温气体动力学重点实验室	4	50	3.0	4.0
4	樊菁	中国科学院力学研究所高温气体动力学重点实验室	28	182	7.0	13.0
5	谢冲	中国科学院力学研究所高温气体动力学重点实验室	1	0	0.0	0.0