日光温室滴灌条件下滴头流量和间距对黄瓜生长的影响

• 来源期刊: 农业工程学报
• 学科: 农学
• 关键词: 滴灌 日光温室 滴头流量 滴头间距 黄瓜 产量
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 167-170
• 页数: 4页
• 分类号: S274
• 字数: 4252字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-6819.2005.10.038

摘要

滴头流量和滴头间距是影响滴灌系统投资的重要参数,为探索降低系统投资,在日光温室中进行了滴头流量和滴头间距对黄瓜生长影响的试验.试验共设4种处理,滴头流量/滴头间距分别为2.7 L·h-1/30 cm、2.7 L·h-1/50 cr、1.4 L·h-1/30 cm和1.4 L·h-1/50 cm,处理间灌水量相同.研究结果表明:在相同灌水量情况下,4种处理的产量分别为80.63、85.66、94.31和90.91 t/hm2,作物水分利用效率分别为23.6、24.9、27.9和25.4 kg/m3,没有形成显著统计差异.由此可见在试验限定条件下对于温室垄作黄瓜,滴灌系统采用较大的滴头间距和较小的滴头流量时,不会影响产量与质量,但可降低系统投资.试验还得出了黄瓜各生育阶段的耗水量、作物系数和需水系数.