厚层抗蚀剂曝光模型及其参数测量

• 作者: 刘世杰 唐雄贵 杜惊雷 杜春雷 段茜 罗铂靓 郭永康
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 厚层抗蚀剂 光刻 曝光 增强Dill模型 曝光参数
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1065-1071
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 5864字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2005.05.041

摘要

针对厚层抗蚀剂曝光过程中存在诸非线性因素的影响,更新Dill曝光参数的定义,建立了适合描述厚层抗蚀剂曝光过程的增强Dill模型.光刻过程模拟的准确性与曝光参数的测量精度有很大关系,为此,建立了实时曝光监测实验装置,测量了不同工艺条件、不同厚度抗蚀剂的曝光透过率曲线,并演绎计算出曝光参数随抗蚀剂厚度和工艺条件的变化规律.最后给出了采用增强Dill模型进行曝光过程的模拟和实验结果的分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭永康	四川大学物理学院	87	836	16.0	21.0
2	杜惊雷	四川大学物理学院	77	611	13.0	18.0
3	刘世杰	四川大学物理学院	10	74	5.0	8.0
5	唐雄贵	四川大学物理学院	21	174	7.0	12.0
8	杜春雷		6	62	5.0	6.0
9	段茜	四川大学物理学院	9	84	5.0	9.0
10	罗铂靓	四川大学物理学院	6	64	5.0	6.0