AlN薄膜的KrF准分子脉冲激光沉积

• 作者: 丁艳芳 朱自强 林成鲁 门传玲 陈韬
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: AlN薄膜 KrF准分子脉冲激光沉积 微结构
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1831-1833,1836
• 页数: 4页
• 分类号: TN383
• 字数: 2703字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.12.005

摘要

研究了采用脉冲激光沉积(PLD)技术在Si(100)衬底上AlN薄膜的制备及其性质.结果表明,衬底温度从室温到800℃的范围内,所得到的AlN薄膜为(002)择优取向的纤锌矿结构.随着衬底温度的升高,AlN薄膜从纳米晶结构转为多晶结构,同时表面微粗糙度上升.AlN晶粒呈柱状生长机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱自强	华东师范大学信息学院	40	272	11.0	13.0
2	林成鲁	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	44	595	15.0	23.0
3	门传玲	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	8	68	6.0	8.0
4	陈韬	华东师范大学信息学院	3	48	2.0	3.0
5	丁艳芳	华东师范大学信息学院	5	16	2.0	4.0