磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究

• 作者: 于洪波 刘实 刘超卓 施力群 朱跃进 王隆保 郑华
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 磁控溅射 Ti膜 氦 热解吸
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 结构材料及核材料使用性能
• 页码范围: 88-93,103
• 页数: 7页
• 分类号: O484.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2005.z1.019

摘要

采用He/Ar复合气氛下磁控溅射方法,在Ti、TiZrYAl 和TiMoYAl等3种薄膜中引入浓度(氦-金属比)高达0.19的氦.引入的氦在膜层内沿深度均匀分布,并主要存在于直径为2～5 nm的高压He泡内.热解吸实验表明,在相同He含量下,TiHe膜中He的解吸峰温度与氚化钛中衰变产生的3He的解吸峰温度基本一致.与纯钛相比,合金膜中氦的热解吸谱宽化明显,表明He在合金膜内的捕获形式更为复杂.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑华	中国科学院金属研究所	149	7794	45.0	86.0
2	刘实	中国科学院金属研究所	38	295	10.0	15.0
3	王隆保	中国科学院金属研究所	28	282	10.0	15.0
4	于洪波	中国科学院金属研究所	9	19	3.0	4.0
5	朱跃进	中国科学院金属研究所	24	146	8.0	11.0
6	刘超卓	复旦大学现代物理研究所	2	9	2.0	2.0
7	施力群	复旦大学现代物理研究所	1	4	1.0	1.0