快速光热退火制备多晶硅薄膜

• 作者: 冯团辉 卢景霄 张宇翔 李瑞 杨仕娥 王海燕 郭敏 陈永生
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶硅薄膜 快速光热退火 固相晶化
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 128-130,154
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.8
• 字数: 2491字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2005.02.013

摘要

用等离子体增强型化学气相沉积先得到非晶硅薄膜,再用卤钨灯照射的方法对其进行快速光热退火,得到了多晶硅薄膜,它与传统退火相比,退火时间大大缩短.用XRD衍射谱、暗电导率和拉曼光谱等手段对其进行了测量.对部分样品的照射光做了滤波,滤掉了波长600 nm以下的光,发现这对晶化及晶粒尺寸都有一定的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈永生	郑州大学物理工程学院	67	484	11.0	19.0
2	王海燕	郑州大学物理工程学院	62	372	11.0	16.0
3	杨仕娥	郑州大学物理工程学院	68	513	12.0	18.0
4	郭敏	郑州大学物理工程学院	58	282	10.0	14.0
5	卢景霄	郑州大学物理工程学院	100	570	12.0	17.0
6	张宇翔	郑州大学物理工程学院	45	274	10.0	14.0
7	李瑞	郑州大学物理工程学院	35	173	8.0	11.0
8	冯团辉	郑州大学物理工程学院	10	86	6.0	9.0