钼基体上真空等离子体喷涂钨涂层的研究

• 作者: 代明江 刘敏 周克崧 熊国刚 邓畅光 邝子奇
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 真空等离子体喷涂 钨涂层 高温热处理 钼基体
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 381-384
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.442|TG146.4+11
• 字数: 2308字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.05.015

摘要

采用真空等离子体喷涂(VPS)技术制备出厚度超过0.8 mm的金属钨涂层,并对涂层进行了高温热处理.结果显示:金属钨涂层主要呈层状结构,其密度可达到理论密度的98%以上;工艺参数对喷涂涂层性能有较大影响,特别是对涂层密度、结合强度有影响;高温热处理引起界面结构变化,形成钨钼混合层,且再结晶形成细小的晶粒;和CVD方法以及常压等离子体喷涂方法制备的钨涂层相比,低压等离子体喷涂具有明显的优势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周克崧		48	796	18.0	26.0
2	刘敏		78	1070	18.0	28.0
3	邓畅光		58	619	14.0	22.0
4	代明江		52	458	13.0	18.0
5	邝子奇		18	136	8.0	11.0
6	熊国刚	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	10	78	5.0	8.0