薄膜结构性能变化中的"温度临界点"

• 作者: 冯团辉 卢景霄 张丽伟 张宇翔 李瑞 李维强 王红娟 靳锐敏
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 温度临界点 薄膜结构 X射线衍射 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 页码范围: 940-943
• 页数: 4页
• 分类号: O447
• 字数: 2308字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2005.05.037

摘要

本文先从理论角度说明了薄膜结构性能变化中存在"温度临界点",然后借助于XRD、Raman等测试仪器研究分析了Si薄膜、AZO薄膜在晶化过程、晶粒长大过程以及性能突变中的"温度临界点".结果显示:薄膜结构性能变化中确实存在"温度临界点";在"温度临界点"前后薄膜结构性能的变化规律曲线出现拐点.进而推论:薄膜的结构性能在随温度变化中"温度临界点"可能不止一个.