PCVD制备新型Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜及其微观结构表征

• 作者: 徐可为 畅庚榕 郭岩 马胜利
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ti-Si-C-N PCVD 纳米复合薄膜 微观结构
• 年，卷（期）: 2005,（9）
• 页码范围: 985-988
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 2135字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2005.09.016

摘要

用脉冲直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法,在高速钢试样表面沉积出一种新型Ti-Si-C-N薄膜材料.研究了不同SiCl4流量对薄膜成分、微观组织形貌以及薄膜晶体结构的影响.X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)分析结果表明:Ti-Si-C-N薄膜是由Ti(C,N)/a-C/a-Si3N4组成的纳米复合结构,薄膜的晶粒尺寸在2-25 nm范围内;当Ti-Si-C-N薄膜中N含量很少时,Ti(C,N)结构转变为TiC,薄膜的表面形貌由颗粒状转变为粗条状.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐可为	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	238	3333	30.0	44.0
2	马胜利	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	51	461	12.0	18.0
3	郭岩	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	5	24	3.0	4.0
4	畅庚榕	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	3	17	3.0	3.0