卧矩台精密平面磨削纳米结构WC/12Co涂层材料去除机理

• 作者: 张璧 邓朝晖
• 来源期刊: 南京航空航天大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米结构WC/12Co涂层 精密平面磨削 材料去除机理 非弹性变形 SEM观察
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 页码范围: 1-7
• 页数: 7页
• 分类号: TG580
• 字数: 4892字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-2615.2005.z1.001

摘要

纳米结构陶瓷涂层具有优异的性能,但在工业应用中不但其涂层制备技术而且其精密磨削技术对涂层的使用性能均具有重要影响,因此对其磨削时的材料去除机理的研究成为必要.本文就磨削参数对纳米结构WC/12Co(n-WC/12Co)涂层卧矩台精密平面磨削的磨削力分力比、比磨削能和磨削表面粗糙度的影响规律进行了试验研究,结合n-WC/12Co涂层精密平面磨削后的表面/亚表面形貌的SEM观察分析,揭示了n-WC/12Co涂层精密磨削的材料去除机理.研究结果表明,n-WC/12Co磨削的材料去除机理主要是非弹性变形方式,材料脆性去除方式较少.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓朝晖	湖南大学机械与汽车工程学院	72	1269	18.0	33.0
2	张璧	湖南大学机械与汽车工程学院	10	354	6.0	10.0