纳米印染助剂开发中的团聚问题及其控制

• 作者: 郑敏
• 来源期刊: 印染助剂
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米助剂 团聚 界面能 位阻效应
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 21-23
• 页数: 3页
• 分类号: TS195.9
• 字数: 3009字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-0439.2005.10.005

摘要

纳米粉体的易团聚性是纳米印染助剂开发以及应用的瓶颈.为此,对纳米粉体的团聚机理及其控制进行了系统而深入的探讨结果表明:接触是团聚的前提,粒子之间的界面能差是导致纳米粉体团聚的内动力,必要的位阻效应是控制团聚的最有效手段.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑敏	苏州大学材料工程学院	39	233	10.0	12.0