磁控溅射镀钽及其镀层性能的研究

• 作者: 于晓中 单玉桥 李力 田晓飞
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 直流 镀钽 医用CT 信号接受盒
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 5-7
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.19
• 字数: 1906字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2005.06.002

摘要

利用直流磁控溅射法,在铝基片、玻璃基片上制备了钽膜.研究了氩气压力、阴极电流、系统本底真空度、溅射时间等工艺条件对钽膜性能及厚度的影响,并对钽膜的物理性能及电学性能进行了研究.结果表明,钽镀层的厚度主要与钽靶功率、氩气分压及溅射时间有关;当氩气压力、电流一定时,钽镀层的厚度与溅射时间近似地成正比关系.利用3 A/(8 min)、4 A/(6 min)、5 A/(3 min)各5片铝基片镀钽的样品制成了医用CT检测器信号接受盒,获得的X-ray电信号分别为30万、32万、34万单位,达到并超过了国际同类产品的技术指标.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	单玉桥	沈阳东北大学材料与冶金学院	1	10	1.0	1.0
2	于晓中	沈阳东北大学材料与冶金学院	1	10	1.0	1.0
3	李力	沈阳东北大学材料与冶金学院	1	10	1.0	1.0
4	田晓飞	沈阳东北大学材料与冶金学院	1	10	1.0	1.0