聚酰亚胺/氧化硅/氧化铝纳米杂化薄膜的制备及结构与性能研究

• 作者: 刘立柱 杨阳 王伟 雷清泉
• 来源期刊: 绝缘材料
• 关键词: 聚酰亚胺薄膜 二氧化硅 三氧化二铝 溶胶-凝胶法 杂化薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 材料研制
• 页码范围: 11-14
• 页数: 4页
• 分类号: TM215.3|TQ323.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9239.2005.05.004

摘要

用溶胶-凝胶法制备了纳米氧化硅( SiO2)及纳米氧化铝( Al2O3)溶胶,并将二者掺入到聚酰胺酸基体中,亚胺化得到聚酰亚胺 (PI)/SiO2/Al2O3杂化薄膜 ,采用红外光谱、原子力显微镜、热失重及阻抗分析仪对薄膜的结构及热性能、介电性能进行表征.结果表明, SiO2和 Al2O3粒子呈纳米级均匀分散在薄膜基体中,并且与有机相存在键合;材料的热分解温度有所提高 ;介电常数随无机含量的增加而增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘立柱	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	100	618	11.0	17.0
2	雷清泉	哈尔滨理工大学电气与电子工程学院	83	1178	20.0	30.0
3	王伟	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	33	158	8.0	11.0
4	杨阳	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	10	49	4.0	7.0