热处理对(Mo0.85Nb0.15)Si2单晶显微结构的影响

• 作者: 单爱党 吴建生 李伟 杨海波
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Mo-Si系 单晶 金属间化合物 退火 显微结构
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 页码范围: 100-104
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.412
• 字数: 2292字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2005.01.017

摘要

电弧熔炼制备的(Mo0.85Nb0.15)Si2合金为MoSi2(C11b结构)和NbSi2(C40结构)两相组织.以电弧熔炼得到的合金为母合金,通过光学悬浮区域熔炼法,选择适当的生长速度4 mm/h制备了(Mo0.85Nb0.15)Si2单晶,单晶结构为C40结构.对单晶在1 200～1 700℃进行不同时间的退火处理.研究了不同热处理制度对合金显微结构的影响规律.结果表明:经1 600℃,6 h退火处理后,在合金中形成了排列紧密、方向取向相同的全片层状结构,片层间距为200～300 nm.经EDS分析,这种片层结构由贫Nb的C11b相和富Nb的C40相组成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	单爱党	上海交通大学材料科学与工程学院	77	423	11.0	14.0
2	吴建生	上海交通大学材料科学与工程学院	141	1402	19.0	30.0
3	李伟	上海交通大学材料科学与工程学院	143	563	13.0	19.0
4	杨海波	上海交通大学材料科学与工程学院	6	43	3.0	6.0