磁控溅射Ti合金薄膜结构特征及贮氢性能

• 作者: 刘实 王隆保 郑华 马爱华
• 来源期刊: 材料研究学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金属材料 磁控溅射 Ti合金薄膜 贮氢
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 64-71
• 页数: 8页
• 分类号: TB383
• 字数: 3658字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-3093.2005.01.011

摘要

采用磁控溅射方法制备了Ti膜及TiMo、TiMoYAl和TiZrYAl等三种合金膜.合金膜中Mo、Zr和Al三种元素成份与靶材成分基本一致,而Y元素则与靶材成分有较大的偏差.在400℃吸氢工艺下,四种膜材的吸氢动力学性能良好,没有脱膜现象,饱和吸氢量均可超过1.5(H/M).膜材的吸氢PCT曲线表明,含Mo合金膜材具有最高的吸氢平衡压,外推出的室温下的数量级约为10-4Pa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑华	中国科学院金属研究所	149	7794	45.0	86.0
2	刘实	中国科学院金属研究所	38	295	10.0	15.0
3	王隆保	中国科学院金属研究所	28	282	10.0	15.0
4	马爱华	中国科学院金属研究所	3	29	3.0	3.0