退火对ZnO薄膜质量的影响

• 作者: 刘大力 张源涛 杜国同 董鑫 闫小龙 高忠民
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 蓝宝石 氧化锌薄膜 金属有机化学气相沉积 X射线衍射 退火
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 535-537
• 页数: 3页
• 分类号: O472.3|O482.31
• 字数: 1661字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2005.04.024

摘要

用金属有机化学气相沉积法(MOCVD)在蓝宝石(0001)衬底上制备了c轴取向的高质量的ZnO薄膜,通过在生长温度下氧气和氮气中退火处理的比较,研究了退火对ZnO薄膜结构和发光特性的影响.通过X射线衍射测量得知,经过氮气和氧气退火都可以使其002峰增强,且在氧退火中表现得尤为明显.光致发光测量发现氮气中退火的ZnO薄膜的紫外发光峰明显增强,而深能级发光峰明显减弱;而氧气中退火的ZnO薄膜的紫外发光峰略有减弱,而深能级峰显著增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜国同	吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点实验室	41	204	8.0	13.0
2	董鑫	吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点实验室	6	13	2.0	3.0
3	刘大力	吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点实验室	1	8	1.0	1.0
4	闫小龙	吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点实验室	1	8	1.0	1.0
5	张源涛	吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点实验室	13	21	3.0	4.0