氮分压对反应溅射(Ti,Al)N薄膜微结构与力学性能的影响

• 作者: 李戈扬 梅芳华 邵楠 魏仑
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: (Ti,Al)N薄膜 反应溅射 微结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 61-64
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3308字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.01.016

摘要

采用Ti-Al复合靶在不同氮分压下制备了一系列(Ti,Al)N薄膜,用EDS、XRD、TEM和微力学探针表征了薄膜的沉积速率、化学成分、微结构和力学性能.结果表明,氮分压对(Ti,Al)N薄膜影响显著:合适的氮分压可以得到化学计量比的(Ti,Al)N薄膜,薄膜为单相组织,并呈现(111)择优取向,最高硬度和弹性模量分别达到34.4GPa和392GPa;过低的氮分压不但会造成薄膜贫氮,而且薄膜中的Al含量偏低,硬度不高;过高的氮分压下,由于存在"靶中毒"现象,尽管薄膜的成分无明显变化,但会大大降低其沉积速率,并使薄膜形成纳米晶或非晶态结构,薄膜的硬度也较低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
2	邵楠	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	12	95	6.0	9.0
3	梅芳华	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	7	73	6.0	7.0
4	魏仑	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	9	138	6.0	9.0