永磁流变抛光纳米精度非球面技术研究

• 作者: 冯之敬 王英伟 程灏波
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 非球面 抛光轮 磁偶极子
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 光学工艺
• 页码范围: 52-54
• 页数: 3页
• 分类号: TG580.6
• 字数: 1783字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2005.01.002

摘要

利用永磁流变抛光技术制造高精度光学元件是一项极具前景的超精密制造技术.对一台五轴联动磁流变数控抛光系统的结构特点、功能特色及关键部件的设计进行了阐述.在此基础上,结合装置开展基础试验,对磁流变抛光过程中的主要控制参量如抛光轮下压量、抛光轮速度等对材料去除特性的影响进行了研究.开展了磁流变抛光对提高工件(K9玻璃)表面粗糙度效果的抛光试验,结果证明该套系统具有良好的磁流变抛光特性,抛光23 min后工件表面粗糙度降低到0.6739nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程灏波	清华大学精仪系	24	309	11.0	17.0
2	冯之敬	清华大学精仪系	50	543	14.0	21.0
3	王英伟	长春理工大学材料系	26	291	11.0	16.0