制作聚合物光波导的铝掩模工艺

• 作者: 刘式墉 卢东昕 张大明 衣茂斌 赵禹
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 聚合物 光波导 刻蚀掩模 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 208-211
• 页数: 4页
• 分类号: TN256
• 字数: 1453字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2005.03.013

摘要

主要针对聚合物波导制备中的关键技术--刻蚀掩模,进行了系统的研究.以铝为例,利用原子力显微镜和光电子能谱,详细地分析并讨论了在聚合物表面溅射镀铝对芯层波导的影响.明确指出,溅射会在聚合物表面形成一层金属包层,从而在器件中引入额外的吸收损耗并对此进行了计算,同时给出解决的办法.最后,总结出最佳的工艺流程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘式墉	吉林大学集成光电子学国家重点联合实验室	57	381	11.0	17.0
2	张大明	吉林大学集成光电子学国家重点联合实验室	44	113	6.0	9.0
3	卢东昕		6	42	4.0	6.0
4	衣茂斌	吉林大学集成光电子学国家重点联合实验室	11	44	4.0	6.0
5	赵禹		2	8	2.0	2.0