射频磁控共溅射制备光催化Ag-TiO2薄膜

• 作者: 任达森 崔晓莉 杨锡良 沃松涛 沈杰 章壮健 蔡臻炜
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 Ag-TiO2 射频共溅射 光催化 循环伏安
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 33-36
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 3122字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.01.009

摘要

采用射频磁控共溅射法制备Ag-TiO2复合薄膜,通过控制Ag靶的溅射时间可调节Ag与TiO2的比例.所制备的Ag-TiO2薄膜为锐钛矿结构.通过紫外光照降解亚甲基蓝溶液和循环伏安法研究Ag-TiO2薄膜光催化及光电化学特性.实验结果表明:掺1.5% Ag的Ag-TiO2薄膜在紫外光照射下能增强亚甲基蓝溶液的降解并得到更大的光生电流.这种光催化的增强主要是由于光生电子-空穴对的复合被抑制的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈杰	复旦大学材料科学系	79	645	12.0	22.0
2	沃松涛	复旦大学材料科学系	11	229	8.0	11.0
3	蔡臻炜	复旦大学材料科学系	6	59	4.0	6.0
4	崔晓莉	复旦大学材料科学系	42	1222	18.0	34.0
5	杨锡良	复旦大学材料科学系	22	512	13.0	22.0
6	章壮健	复旦大学材料科学系	41	667	16.0	24.0
7	任达森	复旦大学材料科学系	6	94	5.0	6.0